MKS美国-真空压力传感器-寿命周期长 采用 Baratron 电容薄膜技术，结构坚固寿命周期长，镍基合金膜片抗疲劳耐腐蚀，长期运行稳定，减少备件更换，适配半导体各类真空工艺。

MKS美国-真空压力传感器-工艺适配广 采用 Baratron 电容薄膜技术，工艺适配广，可兼容腐蚀、高温、高洁净等多种工况，适用于半导体、镀膜、科研等各类真空制程压力监测。

MKS美国-真空压力传感器-抗污染能力强 采用 Baratron 电容薄膜技术，抗污染能力强，可选恒温加热抑制副产物沉积，全金属湿面不易挂污，适用于含杂质的半导体真空工艺监测

MKS美国-真空压力传感器-接口标准化 采用 Baratron 电容薄膜技术，接口标准化，配备 KF、CF 等通用真空法兰，通用性强，便于快速装配集成，适配半导体、真空镀膜各类真空设备

MKS美国-真空压力传感器-全金属湿面 采用 Baratron 电容薄膜技术，全金属湿面设计，选用 Inconel 镍基合金，无有机材质，耐腐蚀低释气，适配半导体等高洁净腐蚀性真空工艺监测

MKS美国-真空压力传感器-洁净度优良 采用 Baratron 电容薄膜技术，全焊接无有机粘接材料，低释气、洁净度优良，不易析出污染物，适配半导体等高洁净真空工艺监测