产品介绍MKS美国-真空压力传感器-全金属湿面
MKS美国-真空压力传感器-全金属湿面
美国 MKS 真空压力传感器依托经典 Baratron 电容薄膜传感技术,核心特点为全金属湿面设计,与工艺气体接触的全部接触面均采用 Inconel 镍基合金,不含橡胶、塑料、胶粘剂等有机材料,低释气、耐腐蚀,广泛应用于半导体刻蚀、薄膜沉积、等离子工艺、高真空镀膜等严苛工艺场景。
传感器湿面包含膜片、腔体内壁、连接法兰等所有和工艺介质接触部位,统一采用 Inconel 镍基合金。该合金耐化学侵蚀能力强,可抵御卤素自由基、各类腐蚀性工艺气体以及工艺副产物的侵蚀。同时,全金属结构摒弃有机密封与粘接材料,在真空和温度循环工况下不会析出挥发性杂质,有效降低腔体污染风险,满足半导体等高洁净制程要求。结合全焊接成型工艺,不存在有机材料老化、溶胀、失效等隐患,结构稳定性更强。
普通传感器湿面常搭配橡胶密封圈或有机涂层,在腐蚀性气体环境下容易被侵蚀老化,不仅释放污染物污染产品,还会造成密封失效、零点漂移,需要频繁更换备件。MKS 全金属湿面设计从根本上消除有机介质带来的缺陷,兼顾耐蚀与高洁净两大优势,大幅延长传感器使用寿命,减少停机维护频次。
该传感器采用力学式压力测量,具备气体无依赖特性,测量结果不受气体组分影响,无需气体系数修正。核心镍基合金膜片强度高,抗蠕变、抗疲劳,迟滞小,重复性好,输出线性佳,分辨率高,能够承受短时过压冲击,抗振动性能优异。部分型号可选恒温加热模块,抑制可凝性副产物在金属膜片表面沉积,持续保障测量精度。产品支持标准模拟信号输出,提供 KF、CF 等多种真空法兰,安装适配性强,量程选型丰富。
半导体精密制造工艺中,腔体介质复杂,同时对洁净度要求严苛。MKS 真空压力传感器凭借全金属湿面,既抵御腐蚀性工艺介质,又避免有机材料释气污染腔体,稳定采集真空压力数据,保障工艺稳定性,提升产品良率。依托 Baratron 成熟传感技术、Inconel 合金材质与全焊接工艺,该传感器成为腐蚀性、高洁净真空环境压力监测的优选器件。
相关产品相关文章
Copyright © 2026 中发能源(北京)有限公司 版权所有 备案号:京ICP备2026057587号-2
技术支持:化工仪器网 管理登录 sitemap.xml