MKS美国-真空压力传感器-响应速度很快 采用 Baratron 电容薄膜技术，毫秒级快速响应，可实时捕捉压力瞬态变化。测量不受气体影响，适配真空闭环控制，满足半导体动态工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-超压耐受度高 拥有优秀超压耐受能力，可承受短时超限压力冲击。保护传感薄膜不易损坏，Baratron 原理测量精准，适配真空工艺压力波动工况监测。

MKS美国-真空压力传感器-抗化学腐蚀强 传感腔体采用 Inconel 合金材质，抗化学腐蚀强，耐受各类腐蚀性工艺气体。稳定性高，气体无关测量，适配半导体腐蚀环境真空监测。

MKS美国-真空压力传感器-不受气体影响 Baratron 电容薄膜原理，测量不受气体种类影响。无需气体修正，精准读取绝对压力，适配多工艺气体半导体真空监测场景。

MKS美国-真空压力传感器-长期稳定性好 采用 Baratron 电容薄膜技术，零点漂移低，长期稳定性优异。抗温漂，重复性佳，长时间连续运行测量稳定，适配半导体精密真空监测

MKS美国-真空压力传感器-测量精度高 采用 Baratron 电容薄膜技术，测量精度高、重复性好。不受气体种类影响，稳定性优异，适配半导体、镀膜等真空工艺压力监测。