【简介】MKS美国-真空压力传感器-超压耐受度高
拥有优秀超压耐受能力，可承受短时超限压力冲击。保护传感薄膜不易损坏，Baratron 原理测量精准，适配真空工艺压力波动工况监测。

MKS美国-真空压力传感器-超压耐受度高

MKS美国-真空压力传感器-超压耐受度高

MKS 美国真空压力传感器，依托 Baratron 电容薄膜传感技术，内置膜片限位止挡保护结构，拥有优异的超压耐受能力。当系统出现压力冲击、意外超限压力时，传感薄膜可限位支撑，避免膜片发生性形变损伤，抵御工艺系统短时压力尖峰，为真空制程提供可靠压力监测保护。

普通真空压力传感器缺少超压防护结构，一旦腔体进气产生突发压力冲击，传感薄膜极易发生塑性变形，造成零点漂移、校准偏移，传感器直接失效，需要停机更换备件，严重影响产线连续生产。MKS 这款传感器采用限位止挡设计，压力超限后膜片会贴合基底电极形成机械限位，限制薄膜的最大形变幅度，防止膜片拉伸损坏，可承受高于满量程的短时冲击压力。接液膜片选用 Inconel 镍基合金，材料抗蠕变性能强，压力冲击下不易产生形变。

产品测量原理为电容薄膜式，测量结果不受气体种类影响，无需气体修正。输出标准 0-10VDC 模拟信号，线性度优异，便于接入工控系统与压力控制器实现真空闭环控制。配套密封件可按需选用氟橡胶、全氟橡胶等耐化学配方，适配多种压力、温度区间。部分型号可选加热结构，减少工艺副产物凝结沉积，降低污染物带来的测量漂移。产品经过反复压力冲击、超压循环耐久测试，多次压力尖峰冲击后，传感单元、薄膜结构与输出信号性能保持稳定。可选配多种标准真空接口适配腔体安装；部分型号集成压力报警触点，压力异常时触发预警，提前规避工艺风险。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀腔体、薄膜沉积设备、等离子工艺系统、真空热处理炉、化工真空反应腔、精密真空测试平台等场景。在腔体意外破真空、进气冲击工况下，依靠内置限位防护结构保护传感膜片，避免传感器损坏；在自动化真空制程中，抵御系统压力波动冲击，减少传感器失效停机风险。

MKS 美国真空压力传感器，集成机械限位超压保护、Inconel 合金传感膜片、气体无关式测量、稳定信号输出等特性，有效抵御系统突发压力冲击，解决普通传感器遇超压易损坏的痛点，满足半导体、薄膜制造行业压力波动工况下真空压力高精度监测的严苛工况需求。