MKS美国-真空压力传感器-线性输出稳定 Baratron 电容薄膜技术，信号线性输出稳定。压力与输出信号线性度优异，测量无明显非线性偏差，适配半导体真空闭环工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-原厂逐台校准 出厂原厂逐台立校准，每台出具标定参数。校准溯源可靠，测量一致性高，保障交付后真空压力测量精准，适配半导体精密工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-膜片迟滞极低 采用径向张紧 Inconel 膜片，迟滞极低，升降压测量误差小。Baratron 电容薄膜原理，重复性优异，适配半导体真空闭环工艺压力监测。

MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖宽广 量程选型宽广，覆盖从粗真空至高真空多档位规格。Baratron 电容薄膜技术，测量不受气体影响，适配各类半导体真空工艺压力监测。

MKS美国-真空压力传感器-全金属焊接体 采用全金属焊接一体化腔体，焊缝密封性强，无泄漏隐患。Inconel 合金焊接结构，抗腐蚀耐压力循环，适配半导体精密真空工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-温漂补偿 搭载温度漂移补偿设计，抑制环境温度波动带来测量偏移。搭配 Baratron 薄膜传感，测量稳定，减少温变校准，适配半导体真空工艺监测。