【简介】MKS美国-真空压力传感器-线性输出稳定
Baratron 电容薄膜技术，信号线性输出稳定。压力与输出信号线性度优异，测量无明显非线性偏差，适配半导体真空闭环工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-线性输出稳定

MKS美国-真空压力传感器-线性输出稳定

MKS 美国真空压力传感器，依托 Baratron 电容薄膜传感技术，压力与输出信号具备优异线性关系，全量程区间线性误差小，输出信号稳定连续，便于真空系统闭环压力调控，适配半导体精密真空工艺监测。

普通真空传感器线性度差，压力与输出信号不成正比，在全量程范围内非线性偏差明显。在镀膜、刻蚀工艺中，压力闭环控制会出现调控偏差，压力反馈失真，造成工艺参数不一致，降低晶圆良率。MKS 这款传感器采用精密 Inconel 合金张紧膜片，搭配高精度信号调理电路，将膜片受压形变转化为电容信号，转换后的 0-10VDC 模拟输出与压力保持高度线性。从零点到满量程全程线性误差被严格控制，压力变化时输出信号同步平稳跟随，减少非线性带来的控制偏差。

产品测量结果不受气体种类影响，无需气体修正。接液腔体采用全金属焊接结构，抗蠕变、耐腐蚀，配套密封件可选氟橡胶、全氟橡胶，适配多种工艺气体、宽温工况。部分型号支持加热温控结构，抑制可凝副产物沉积在膜片表面，避免污染物造成信号漂移。产品经过多点线性校准、压力循环老化测试，在长期在线工况下，信号线性度无明显衰减。可选配多种标准真空接口适配腔体安装；部分型号集成压力报警触点，压力超限快速触发预警，保障工艺安全。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀腔体、薄膜沉积镀膜、等离子工艺系统、真空热处理炉、精密真空动态测试台、实验室真空实验平台等场景。在真空闭环稳压工艺中，稳定线性输出保障压力控制器精准调节；在多段压力制程切换工况下，全量程优良线性特性，减小工艺波动，保障批次产品良率稳定。

MKS 美国真空压力传感器，融合全量程优异线性输出、Baratron 力传感原理、耐腐蚀合金腔体、稳定模拟信号输出等优势，解决普通传感器非线性误差大的问题，保障真空闭环控制系统调控精度，满足半导体、薄膜制造行业压力动态变化工况下真空压力高精度监测的严苛工况需求。