【简介】MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖宽广
量程选型宽广，覆盖从粗真空至高真空多档位规格。Baratron 电容薄膜技术，测量不受气体影响，适配各类半导体真空工艺压力监测。

MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖宽广

MKS美国-真空压力传感器-量程覆盖宽广

MKS 美国真空压力传感器，依托 Baratron 电容薄膜核心技术，拥有宽广的量程系列选型，从粗真空到超高真空区间均可提供适配型号，多档位量程可选，能够覆盖不同真空工艺压力区间，为各类真空制程提供精准可靠的压力监测方案。

单一量程的真空传感器适配场景受限，面对不同工艺腔体压力需求时，只能更换传感器整体，增加备件种类与选型成本。MKS 这款真空压力传感器提供丰富的满量程规格，可从高压力低真空一直延伸到真空区间。用户可根据镀膜、刻蚀、热处理等工艺腔体实际工作压力，灵活挑选匹配量程型号，在保证测量精度的前提下兼顾压力监测范围。同系列产品基础结构统一，仅更换内部薄膜规格即可实现量程切换，便于项目标准化选型与备件管理。

产品测量原理为电容薄膜式，测量结果不受气体种类影响，无需气体修正。输出标准 0-10VDC 模拟信号，线性度优异，便于接入工控系统与压力控制器，实现真空回路闭环控制。传感膜片与腔体采用 Inconel 镍基合金，耐化学腐蚀，可耐受各类工艺气体侵蚀；配套密封件可选氟橡胶、全氟橡胶，适配多种温度工况。产品经过压力循环、高低温老化以及长期稳定性测试，各量程规格均可在额定范围内保持优异测量精度与重复性。可选配多种标准真空接口适配腔体安装；部分型号集成压力报警触点，压力超限触发预警，规避工艺风险。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀腔体、薄膜沉积镀膜、真空热处理炉、冻干工艺设备、等离子工艺系统、实验室真空测试平台等场景。在高低压交替的真空试验平台，可选用不同量程型号满足分段压力监测；在晶圆制造产线中，针对不同工艺腔体的真空环境，按需选型量程，保障压力监测精准稳定。

MKS 美国真空压力传感器，融合多档位宽广量程选型、气体无关测量、耐腐蚀 Inconel 合金腔体、高精度稳定输出等特性，覆盖宽范围真空压力区间，解决单一量程传感器适配局限性，满足半导体、薄膜制造不同真空工况下压力高精度监测的严苛工况需求。