【简介】MKS美国-真空压力传感器-长期稳定性好
采用 Baratron 电容薄膜技术，零点漂移低，长期稳定性优异。抗温漂，重复性佳，长时间连续运行测量稳定，适配半导体精密真空监测

MKS美国-真空压力传感器-长期稳定性好

MKS美国-真空压力传感器-长期稳定性好

MKS 美国真空压力传感器，依托 Baratron 电容薄膜核心技术，采用张紧式 Inconel 合金薄膜与精密温控电路，零点漂移极低，长期连续工况下输出漂移小，减少频繁校准需求，为半导体真空工艺提供长期稳定的压力监测方案。

普通真空计长时间持续运行后，易受环境温度波动、工艺副产物沉积影响，出现零点偏移、测量值漂移，需要频繁停机校准，不仅占用生产工时，还会造成工艺参数波动，降低产品良率。MKS 这款真空压力传感器，采用全焊接双层金属腔体结构，搭配稳定的薄膜传感组件，部分型号内置恒温控温模块，抑制环境温度变化带来的温漂，降低长时间运行下测量偏移。薄膜结构迟滞小、重复性高，抗压力循环冲击，持续长时间真空制程中，测量输出变化幅度被严格控制。

产品支持标准模拟信号输出，信号线性度优异，便于接入工控系统实现压力闭环控制。接液部分为 Inconel 镍基合金，耐腐蚀性强，耐受各类工艺腐蚀气体侵蚀。可选加热型版本，减少工艺反应物凝结沉积在薄膜表面，从源头降低漂移诱因。产品经过长时间老化、高低温循环、持续压力耐久测试，长期在线运行下传感单元性能衰减缓慢。可搭配多种标准真空接口适配腔体安装；部分型号集成压力报警触点，可设置阈值，实现工艺超限预警保护。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀、薄膜沉积镀膜、真空热处理炉、冻干设备、精密真空测试台、实验室真空实验装置等场景。在半导体产线长期不间断生产工况下，维持真空压力测量稳定，减少停机校准频次；在镀膜、刻蚀等连续制程中，保障工艺参数一致性，提升产品良率。

MKS 美国真空压力传感器，将 Baratron 电容薄膜传感、低零点漂移、温控补偿、耐腐蚀腔体融为一体，大幅降低长期运行测量漂移问题，减少设备维护与校准成本，满足半导体、薄膜制造等行业长时间连续生产工况下真空压力稳定监测的严苛需求。