【简介】MKS美国-真空压力传感器-测量精度高
采用 Baratron 电容薄膜技术，测量精度高、重复性好。不受气体种类影响，稳定性优异，适配半导体、镀膜等真空工艺压力监测。

MKS美国-真空压力传感器-测量精度高

MKS美国-真空压力传感器-测量精度高

MKS 美国真空压力传感器，依托经典 Baratron 电容薄膜传感原理，拥有测量精度与优异重复性，测量结果不受气体组分影响，是精密真空工艺压力监测的核心测量组件，广泛应用于对真空控制要求严苛的制造领域。

普通真空测量仪表容易受气体种类、温度波动干扰，产生测量偏差，精度不足会直接造成镀膜、刻蚀等工艺参数漂移，影响产品良率。MKS 真空压力传感器采用张紧式 Inconel 合金薄膜结构，通过检测薄膜受压形变带来的电容变化换算压力值，具备极低迟滞、超高分辨率的特性，可稳定捕捉微小真空压力变化。传感器采用全金属焊接双层壳体结构，安全可靠，可承受一定过压冲击，反复压力循环后零点漂移小，长期使用测量稳定性突出。

产品响应速度快，信号输出线性度好，支持标准 0-10VDC 模拟信号输出，便于接入工控系统、压力控制器实现闭环控制。接液材质选用 Inconel 合金，耐腐蚀性强，适配多种工艺制程气体，可根据工况选择常温与控温加热版本，抑制介质冷凝带来的测量误差。传感器经过严格校准、高低温老化、压力冲击及长时间稳定性测试，在半导体工艺环境下持续保持高精度测量性能。可选配多种标准真空接口，适配不同腔体管路安装；部分型号集成继电器报警触点，可设置压力阈值，实现工艺超限保护。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀、薄膜沉积镀膜、冻干工艺、真空分析仪器、航空真空测试、材料热处理真空炉等场景。在半导体晶圆制程中，精准监控腔体内真空度，保障薄膜沉积工艺一致性；在精密真空实验室、镀膜产线，稳定可靠的压力读数减少工艺波动，降低产品报废风险。

MKS 美国真空压力传感器，集合电容薄膜高精度测量、气体无关测量特性、耐腐蚀金属传感腔体、快速信号响应等优势，解决传统真空计测量不准、易受介质干扰的痛点，为精密真空制程提供稳定可靠的压力监测手段，满足半导体与真空装备高精度真空压力检测的严苛工况需求。