【简介】MKS美国-真空压力传感器-抗化学腐蚀强
传感腔体采用 Inconel 合金材质，抗化学腐蚀强，耐受各类腐蚀性工艺气体。稳定性高，气体无关测量，适配半导体腐蚀环境真空监测。

MKS美国-真空压力传感器-抗化学腐蚀强

MKS美国-真空压力传感器-抗化学腐蚀强

MKS 美国真空压力传感器，采用 Baratron 电容薄膜技术，接液区域选用 Inconel 镍基合金，具备抗化学腐蚀能力，耐受卤素、酸性等强腐蚀性工艺气体，解决普通传感器在腐蚀气氛下基体侵蚀、薄膜损坏难题，适配半导体刻蚀等高腐蚀真空工艺压力监测。

普通传感器的常规金属材质，在含氟、氯等活性腐蚀气体环境中，极易发生基体点蚀、氧化，薄膜被化学介质侵蚀，造成零点漂移、测量失效，直接影响半导体工艺良率。MKS 这款传感器接液腔体与传感薄膜采用 Inconel 镍基合金，合金材料抗点蚀、抗晶间腐蚀性能突出，可抵御等离子刻蚀工艺内强腐蚀性气体侵蚀。部分加热型产品，通过温控抑制可凝副产物附着在薄膜表面，减少化学沉积物带来的腐蚀与测量漂移，保障传感元件长期稳定工作。

产品测量原理为电容薄膜式，测量结果不受气体种类影响，无需气体修正。输出标准 0-10VDC 模拟信号，线性度优异，便于接入工控系统实现真空闭环控制。配套密封件可按需选用氟橡胶、全氟橡胶等耐化学配方，适配宽温、宽压力工况。产品经过腐蚀介质浸泡、等离子环境老化、压力循环耐久测试，长期暴露在腐蚀性工艺气体下，传感薄膜、焊接腔体性能衰减极低。可选配多种标准真空接口适配腔体安装；部分型号集成压力报警触点，超限触发预警，保障工艺安全。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀腔体、薄膜沉积设备、等离子工艺系统、化工真空反应腔、精细材料热处理真空炉、腐蚀气体测试平台等场景。在半导体刻蚀制程中，长期耐受卤素腐蚀性工艺气体，避免传感器腐蚀失效，维持真空压力测量精准稳定；在化学真空试验平台，抵御各类活性介质侵蚀，降低备件更换频率，减少停机维护成本。

MKS 美国真空压力传感器，融合 Inconel 耐蚀合金腔体、Baratron 电容薄膜测量、气体无关测量、长期稳定输出等优势，专门应对强腐蚀工艺气体环境，化解普通传感器易被化学介质侵蚀的痛点，满足半导体、薄膜制造行业腐蚀性气体工况下真空压力高精度监测的严苛工况需求。