【简介】BROOKS 布鲁克斯-真空计-Mark-IV 传感头
采用 Inconel 耐腐蚀膜片，预留污染物沉积缓冲区域，抗工艺污染，减少重校频次。搭配双区温控，温漂低，测量稳定，适配 XacTorr 加热电容真空计，多用于半导体真空工艺

BROOKS 布鲁克斯-真空计-Mark-IV 传感头

BROOKS 布鲁克斯-真空计-Mark-IV 传感头

BROOKS 布鲁克斯 XacTorr 系列真空计搭载 Mark‑IV 传感头，专为半导体等严苛腐蚀、易污染的真空工艺打造，是加热式电容薄膜真空计的核心测量单元。区别于普通电容传感结构，Mark‑IV 传感头从材料与结构层面解决了工艺副产物沉积、腐蚀性气体侵蚀带来的测量漂移问题，是真空压力测量的经典传感方案。

Mark‑IV 传感头采用 Inconel 合金膜片，具备耐腐蚀性，可耐受含卤素、等离子体工艺气体，抵御工艺粉尘、聚合物沉积物侵蚀。独特的前置缓冲腔结构设计，相当于在感应膜片前方增加防护空间，大幅延缓污染物直接附着在敏感膜片表面，避免膜片被污染后出现零点漂移，显著拉长重新校准周期，减少设备停机维护时间。

传感头内置双区温控系统，对膜片与参考腔独立恒温控制，稳定维持工作温度，消除环境温度波动、工艺气体温度变化造成的测量误差。恒温设计同时抑制水汽与工艺副产物在膜片表面冷凝，进一步降低污染附着概率。高精度电容感应结构，捕捉膜片微小形变，将压力变化转化为电容信号，测量精度高，且测量结果与气体种类无关，不受气体热传导特性干扰。

传感头本体结构紧凑，焊接密封，无渗漏风险，适配高洁净真空腔体安装。原始电容信号就近采集，降低线路干扰，配合后端信号调理模块，输出稳定模拟或数字信号，方便接入 PLC、真空控制系统，支持工艺压力监控、联锁保护。

在半导体刻蚀、沉积、离子注入等工艺中，腔体内部常伴随腐蚀性气体与颗粒产物，普通真空规极易快速失效。Mark‑IV 传感头凭借耐腐合金材料、缓冲防污染结构与双区恒温技术，在恶劣工况下持续稳定监测压力。作为布鲁克斯加热电容真空计的核心部件，Mark‑IV 传感头以抗污染、低漂移、长寿命的特性，成为优良制程真空设备的优选测量组件，保障真空工艺重复性与良率稳定。