【简介】BROOKS 布鲁克斯-真空计-双区恒温控制
分别对传感膜片与参考腔独立控温，抑制温漂，防止工艺副产物冷凝。有效降低污染影响，压力测量稳定，适配半导体腐蚀真空工况。

BROOKS 布鲁克斯-真空计-双区恒温控制

BROOKS 布鲁克斯-真空计-双区恒温控制

BROOKS 布鲁克斯 XacTorr 真空计搭载双区恒温控制技术，是配套 Mark‑IV 传感头的核心温控方案，专门应对半导体腐蚀真空工艺下温度漂移、介质冷凝污染等痛点，实现高精度、长期稳定的真空压力测量，也是加热型电容薄膜真空计区别于普通真空规的关键技术。

传统单区恒温真空计仅对传感头部整体加热，膜片与参考腔温度无法独立调节，极易出现腔体温差，引发测量偏移。布鲁克斯双区恒温系统，将传感膜片与内部参考腔分为两个独立温控区域，配备独立测温元件与加热回路，分别闭环控温，精准维持两个区域的设定温度，消除膜片和参考腔之间的温度梯度，从根源上减少温度差带来的零点漂移。

双区恒温的另一大优势，是抑制工艺副产物冷凝。半导体刻蚀、薄膜沉积工艺会产生聚合物、水汽、卤化物等杂质，在低温传感膜片表面极易凝结沉积，改变膜片力学特性，造成压力读数持续偏移。双区恒温保持传感面维持高于工艺露点的恒定温度，阻止污染物附着，大幅延长传感头校准周期，减少设备停机维护频次。

该温控系统内置高精度热敏传感器，实时采集两区温度数据，控制器持续动态调节加热功率，抗环境温度波动，即使腔体热辐射、工艺间歇启停带来温度扰动，依然保持稳定工作温区。独立控温结构不影响电容感应单元响应速度，压力信号采集实时连续，测量结果不受气体种类影响，保障工艺重复性。

整套温控单元集成于传感头内部，结构紧凑，焊接密封，满足高洁净真空要求，信号抗干扰能力强，输出模拟、数字信号，可接入上位机与 PLC 系统，实现压力监测与工艺联锁。

在半导体等离子工艺、腐蚀性气体真空环境中，双区恒温控制配合 Mark-IV 传感头，显著提升真空计抗污染能力与长期测量精度。布鲁克斯这项技术解决了传统电容真空计在严苛工艺下漂移快、寿命短的难题，为优良制程真空腔体提供可靠压力测控保障。