【简介】MKS美国-真空压力传感器-抗震抗冲击佳
内部配备膜片限位防护结构，抗震抗冲击性能优异。耐受设备振动与压力冲击，Baratron 测量稳定，适配设备振动环境真空压力监测

MKS美国-真空压力传感器-抗震抗冲击佳

MKS美国-真空压力传感器-抗震抗冲击佳

MKS 美国真空压力传感器，依托 Baratron 电容薄膜技术，采用全金属双层焊接坚固壳体搭配张紧式 Inconel 合金膜片，结构抗震、抗冲击性能优异，可抵御设备振动、管路压力冲击，有效降低机械震动带来的测量漂移，适配存在持续振动工况的半导体真空工艺压力监测。

普通真空压力传感器内部膜片缺少加固防护，设备震动、腔体进气冲击容易造成膜片蠕变、零点漂移，出现测量偏差。在刻蚀、镀膜设备的泵体振动环境下，持续振动会加速传感元件疲劳，引发传感器失效停机。MKS 这款传感器的传感膜片采用预应力张紧结构，搭配内置机械限位止挡设计，提升整体结构刚性，降低振动带来的膜片微形变，可耐受设备运行持续振动以及系统突发压力冲击，在振动环境下维持测量稳定。全金属焊接一体化腔体无松动装配间隙，进一步削弱振动带来的内部扰动。

产品测量原理为电容薄膜式，测量结果不受气体种类影响，无需气体修正。输出标准 0-10VDC 模拟信号，线性度优异，便于接入工控系统与压力控制器，实现真空回路闭环稳压。配套密封件可按需选用氟橡胶、全氟橡胶等耐化学配方，适配各类工艺腐蚀气体、宽压力与温度区间。产品经过振动扫频、冲击力学耐久测试，在长期振动工况下传感膜片、电路输出性能衰减极小。可选配多种标准真空接口适配腔体安装；部分型号集成压力报警触点，压力异常触发预警，保障工艺安全。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀腔体、薄膜沉积镀膜、等离子工艺系统、真空热处理炉、材料真空测试平台、带振动泵组的真空实验装置等场景。在带有真空泵持续振动的产线设备中，抵抗机械振动干扰，保障真空压力读数稳定；在存在瞬时压力冲击的工艺腔体，依靠限位结构保护膜片，减少传感器损坏风险。

MKS 美国真空压力传感器，融合高刚性抗震传感结构、Inconel 合金膜片防护、气体无关式测量、全金属焊接腔体等优势，耐受设备振动与瞬时压力冲击，解决普通传感器在振动环境易漂移损坏痛点，满足半导体、薄膜制造行业振动工况下真空压力高精度监测的严苛工况需求。