【简介】MKS美国-真空压力传感器-模拟信号输出
标准 0~10VDC 模拟信号输出，信号线性优良，压力信号平稳连续。Baratron 原理高精度测量，易于接入工控闭环，适配半导体真空工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-模拟信号输出

MKS美国-真空压力传感器-模拟信号输出

MKS 美国真空压力传感器，采用 Baratron 电容薄膜传感技术，标配标准 0~10VDC 高电平模拟信号输出，压力与输出信号具备优良线性比例关系，信号稳定可靠，可直接对接压力控制器、工控系统实现真空闭环控制，广泛适配半导体制程压力监测。

很多传统真空测量设备模拟输出信号弱、线性差，传输过程易衰减，接入闭环控制系统时调节偏差大，造成镀膜、刻蚀工艺压力不稳定。MKS 这款传感器输出 0-10VDC 标准模拟电压信号，高电平输出抗干扰能力更强，压力变化时输出信号连续平稳跟随。传感膜片选用 Inconel 镍基合金，全金属焊接腔体，测量结果不受气体种类影响，无需气体修正。信号转换电路经过精密调校，全量程范围内线性误差小，便于工控系统采集压力数据，快速实现真空压力闭环稳压调控。

产品适配多种工艺工况，密封件可选氟橡胶、全氟橡胶耐化学配方，耐受等离子、卤素等腐蚀性工艺气体。可选加热型结构，抑制可凝副产物沉积在膜片表面，避免污染物附着引发零点漂移，保障模拟输出信号长期稳定。产品经过长周期压力循环、高低温老化测试，持续在线运行下信号漂移幅度小，输出稳定性优秀。配备标准 D-Sub 电气接口，接线便捷；部分型号集成继电器报警触点，压力超限输出开关预警信号，保障工艺安全。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀腔体、薄膜沉积镀膜、等离子工艺设备、真空热处理炉、真空测试平台、实验室真空实验装置等场景。在半导体产线中，依靠稳定的 0~10VDC 模拟输出，配合压力控制器精准调控腔体真空度；在薄膜沉积工艺，稳定连续的模拟信号保障闭环压力调节效果，减少工艺批次差异，提升产品良率。

MKS 美国真空压力传感器，融合标准 0~10VDC 模拟信号输出、气体无关测量、Inconel 耐蚀合金腔体、高线性信号转换等优势，信号兼容性强，对接工控系统简单便捷，满足半导体、薄膜制造行业真空工艺压力闭环监测的严苛工况需求。