【简介】MKS美国-真空压力传感器-合金膜片耐用
采用高性能径向张紧 Inconel 合金膜片，抗蠕变、耐疲劳，经久耐用。Baratron 电容薄膜原理，弹性可逆，适配半导体真空长期工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-合金膜片耐用

MKS美国-真空压力传感器-合金膜片耐用

MKS 美国真空压力传感器，依托 Baratron 电容薄膜传感技术，核心传感元件采用径向预张紧 Inconel 镍基合金膜片，抗蠕变、耐疲劳、耐腐蚀，弹性可逆性能优秀，长期压力循环工况下不易产生形变，使用寿命长久，适配半导体严苛等离子真空工艺长期监测。

普通传感器膜片材质性能有限，在压力往复波动、腐蚀工艺气氛长期作用下，容易出现疲劳损伤、塑性变形，造成零点漂移、测量失准，需要频繁更换。MKS 这款传感器的 Inconel 合金膜片经过专业应力释放处理，具备优异抗蠕变特性，反复压力加载泄压后膜片可恢复原始形态，不易留存残余应力。搭配全金属焊接腔体，整体结构坚固，抵御等离子卤素腐蚀气体侵蚀，膜片表面抗副产物附着，大幅延缓元件老化，保障长期连续生产稳定。测量原理为纯力学转换，读数只由压力决定，测量不受气体种类影响，无需气体修正。

产品输出标准 0~10VDC 模拟信号，线性度优良，便于接入工控系统、压力控制器构建真空闭环调控。配套密封件可选氟橡胶、全氟橡胶耐化学配方，适配各类腐蚀性工艺气体。部分加热型型号，抑制可凝副产物沉积膜片，进一步保护合金膜片。产品经过压力交变循环、力学疲劳耐久测试，长时间连续运行，膜片弹性与测量指标保持稳定。可选配多种标准真空接口适配腔体安装；部分型号集成继电器报警触点，压力超限触发预警，保护传感元件。

该传感器广泛应用于半导体刻蚀腔体、薄膜沉积镀膜、等离子工艺系统、真空热处理炉、多腔体并行自动化产线、真空实验平台等场景。在长期不间断半导体制程产线，依靠耐用合金膜片，减少传感器更换频次，降低备件成本与停机维护时长；在强腐蚀等离子工艺腔体，抵御化学侵蚀与压力交变，保障真空压力测量长期稳定。

MKS 美国真空压力传感器，融合耐用 Inconel 合金膜片、低蠕变可逆弹性形变、气体无关测量、全金属焊接耐腐蚀腔体等优势，延长传感器服役周期，减少更换维护，满足半导体、薄膜制造行业长期连续生产工况下真空压力高精度监测的严苛工况需求。