【简介】MKS美国-真空压力传感器-测量精度高
采用 Baratron 电容薄膜技术，测量精度高、长期稳定性优异，不受气体种类影响，量程覆盖广，耐腐蚀，广泛用于半导体、真空镀膜等精密真空检测场景

MKS美国-真空压力传感器-测量精度高

MKS美国-真空压力传感器-测量精度高

美国 MKS 作为*真空与压力测量领域的品牌，其真空压力传感器凭借出色的测量精度与稳定性能，成为精密真空环境检测的核心器件，广泛应用于半导体制造、真空镀膜、科研实验、航天测试、等离子工艺等行业。

MKS 真空压力传感器核心采用成熟的 Baratron 电容薄膜传感技术，也是品牌标志性技术。传感器内部的精密金属薄膜将压力信号转化为电容变化，经过内置电路采集与信号处理，实现超高精度压力检测。该测量原理的一大优势在于，测量结果基本不受被测气体种类影响，无需针对不同气体反复修正，在多种工艺气体环境下均可保持稳定读数，有效降低工艺调试成本。

产品测量精度表现突出，能够实现微小真空压力的精准捕捉，低压段分辨率优异，重复性好，长期漂移量低，长时间连续工作也不会出现明显的精度衰减。传感器内部结构经过优化，具备良好的耐腐蚀性，可适配部分腐蚀性工艺气体，同时抗震动、抗温度波动能力较强，能够适应工业现场复杂工况。产品量程覆盖范围宽广，从高真空到低真空区间拥有丰富型号可选，可满足不同场景下的真空监测需求。

在信号输出方面，MKS 真空压力传感器支持标准模拟信号与数字通讯输出，方便直接接入工控系统、真空控制器与上位机，便于实时采集、记录真空压力数据，实现工艺闭环控制。传感器体积紧凑，安装便捷，适配各类真空腔体接口，安装后响应速度快，能够快速反馈真空压力变化，保障真空工艺的一致性。

在半导体、精密镀膜等工艺中，真空度直接决定产品良率，微小压力偏差就会造成工艺失效。MKS 真空压力传感器依靠高精度、高可靠性特性，实时监控腔体真空状态，保障工艺环境稳定。凭借数十年技术积累，该系列传感器凭借稳定可靠的表现，成为真空设备的优选压力测量部件。