【简介】MKS美国-真空压力传感器-重复性优异
采用 Baratron 电容薄膜技术，重复性优异，多次压力循环下读数一致性高，迟滞小，搭配耐腐蚀结构，多用于半导体、真空镀膜等精密真空工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-重复性优异

MKS美国-真空压力传感器-重复性优异

美国 MKS 真空压力传感器依托经典 Baratron 电容薄膜传感技术，重复性优异是其核心技术亮点，广泛应用于半导体制造、真空镀膜、等离子刻蚀、光学涂层及科研真空实验等对参数一致性要求严苛的精密工艺场景，保障批量生产工况下压力测量结果稳定可复现。

传感器核心采用特种 Inconel 合金薄膜作为敏感元件，材料抗蠕变、抗疲劳性能强，在反复加压、泄压循环过程中，膜片形变具备高度可逆性，压力卸载后能够快速恢复原始状态，减少机械迟滞带来的读数偏差。配合精密加工的电极结构与优化的信号调理电路，多次重复压力测试时，同一压力点下测量值偏差极小，测量重复性表现突出。即便长期反复经历抽真空、充气的工艺循环，传感器读数一致性依旧能够稳定维持。

传统真空测量器件在多次压力循环后，容易出现读数偏移，同一工艺条件下每次测量结果差异较大，造成工艺参数波动，影响成品良率。MKS Baratron 传感器凭借出色的重复性，每一轮工艺循环均可获得一致可靠的压力数据，便于建立标准化工艺参数，降低批次间工艺差异。同时该传感器为力学式压力测量，具备气体无依赖特性，测量结果不受气体组分影响，无需根据气体种类修正系数。

产品可选内置恒温模块，有效抑制环境温度变化对传感元件的干扰，进一步巩固重复性指标。全焊接密封结构，湿面耐腐蚀，可耐受多种工艺气体，抗短时压力冲击，传感元件不易发生性形变。传感器支持模拟量与数字通讯输出，信号噪声低，量程覆盖范围广，真空接口规格丰富，安装简单便捷，可直接接入真空控制系统实现工艺闭环监测。