MKS美国-压力传感器-抗工艺副产物沉积结构 内腔抛光 + 可选加热温控，减少沉积物附着，降低膜片污染，适配半导体沉积刻蚀真空监测。

MKS美国-压力传感器-半导体洁净室兼容设计 低释气、低掉尘，外壳防尘易清洁，满足 Class1 洁净环境，适配晶圆制造真空压力监测。

MKS美国-压力传感器-内壁低抛光洁净工艺 内腔高光洁度，减少气体吸附与颗粒滞留，低放气，适配半导体高纯真空工艺压力监测

MKS美国-压力传感器-高纯工艺无析出材质 全金属低放气构造，无有机析出物，规避工艺污染，适配半导体超高纯净工艺真空压力监测

MKS美国-压力传感器-蒸汽介质适配能力 全合金接液与焊接密封结构，耐水汽腐蚀，可抵御冷凝冲击，适配半导体蒸汽工艺真空压力监测

MKS美国-压力传感器-臭氧介质适配特性 耐蚀合金全金属接液结构，抵御臭氧强氧化侵蚀，低放气，用于半导体臭氧氧化工艺真空压力监测