MKS美国-真空压力传感器-合金膜片耐用 采用高性能径向张紧 Inconel 合金膜片，抗蠕变、耐疲劳，经久耐用。Baratron 电容薄膜原理，弹性可逆，适配半导体真空长期工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-工艺重复性好 测量重复性优异，批次间压力测量一致性高。Baratron 电容薄膜技术，Inconel 膜片迟滞极低，保障半导体制程批次工艺稳定。

MKS美国-真空压力传感器-高分辨率检测 具备高分辨率检测，可捕捉微小压力变化。Baratron 电容薄膜技术，Inconel 膜片弹性可逆，适合半导体真空微小压力精密监测。

MKS美国-真空压力传感器-低零点漂移量 点漂移量低，长时间运行零点偏移极小。Baratron 张紧 Inconel 膜片，全金属焊接结构，测量稳定，适配半导体长期真空工艺监测。

MKS美国-真空压力传感器-抗射频干扰强 具备优异抗射频干扰能力，可抵御等离子射频环境电磁噪声。Baratron 电容薄膜技术，信号稳定，适配半导体等离子腔体压力监测。

MKS美国-真空压力传感器-标准真空接口 配备行业通用标准真空接口，适配多种工艺腔体管路。Baratron 电容薄膜技术，安装互换性强，密封可靠，便于半导体真空设备集成装配。